为集中展示国际印学研究领域现有成果积累，促进海内外印学研究资源整合、共享与交流，进一步推动当代印学研究深入开展，第六届“孤山证印”西泠印社国际印学峰会将于2020年秋在杭州举行。

　　本届峰会论题范围包括印学文献研究、印人研究、篆刻流派研究、篆刻技法与审美研究、金石全形拓研究、古玺印研究、域外印章研究、西泠印社史研究，以及金石、书画、鉴藏等相关方向。其中，金石全形拓研究是本届峰会的侧重领域，峰会期间还将同步举办“百年金石学发展及当代金石传拓精品展”。

　　本届峰会采取定向约稿与公开征稿相结合的形式，邀集印学界同人进行研讨交流，并特邀部分在海内外印学研究及相关领域有较高成就的资深名家作主题报告。

　　峰会特设优秀论文评奖程序，按照《西泠印社学术论文评审工作实施细则》，由评审委员会对来稿论文进行匿名评审，并经机检查重和公示等程序，选出入选论文不超过50篇（其中一等奖2篇、二等奖6篇、三等奖12篇），编入《论文集》并正式公开出版。列为一、二等奖的社外获奖论文作者，将受邀来杭参加现场答辩，旨在确认作者的学术水平和论文真实性。其中，通过现场答辩的一等奖社外获奖者，将按照《西泠印社新社员发展工作实施细则》的相关规定，报经西泠印社社长会议审议通过后，吸收入社。

　　欢迎海内外印学界及相关领域同人踊跃赐稿，共襄盛举。赐稿请于2020年7月15日前寄至：

　　地 址：杭州市下城区西湖文化广场32号5楼西泠印社社委会

　　邮 编：310014

　　收件人：艺术创研处

　　E-mail：xlyscyc@126.com

　　西泠印社

　　二〇二〇年三月